“零到一”突破期望升溫 A股光刻機產業(yè)鏈躁動

　　近期，作為半導體制造最核心環(huán)節(jié)的光刻機賽道走熱，國產產業(yè)鏈相關標的在二級市場熱度空前，A股光刻機產業(yè)鏈標的波動，高度吸引著市場的目光。

　　9月24日，21世紀經濟報道記者在上海國家會展中心舉辦的第二十五屆中國國際工業(yè)博覽會上看到，上海微電子(SMEE)展臺上首次公開亮相極紫外(EUV)投影微場曝光裝置，及其部分技術內容的對外披露。

　　行業(yè)脈動直接傳導至二級市場，疊加近期半導體行業(yè)漲價預期不斷催化的影響，光刻機概念漲勢如虹。

　　9月24日，光刻機概念龍頭張江高科(600895.SH)漲停，股價再創(chuàng)歷史新高；同期，江豐電子(300666.SZ)漲超17%，聯(lián)合化學(301209.SZ)、先鋒精科(688605.SH)、洪田股份(603800.SH)、富創(chuàng)精密(688409.SH)漲超5%。

　　根據(jù)張江高科此前互動易披露消息，公司通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子公司22345萬元，持有上海微電子公司10.779%的股權。

　　江豐電子為光刻工藝的前道工序(沉積)提供關鍵材料，并為后道工序(刻蝕)等相關設備提供精密零部件。

　　據(jù)其此前年報披露，江豐電子研發(fā)的“半導體用多層薄壁鈦合金擴散焊接項目”，用于制備28nm以下節(jié)點的光刻機核心冷卻部件，已進入量產階段，有望切入光刻機設備核心部件領域。

　　對于光刻機市場，中航證券研報指出，中國大陸光刻機市場空間廣闊，但主要依賴荷蘭、日本等地進口。

　　出口管制陰影下，光刻機供給不確定性上升，走向自主可控已無可回避。

　　待征服的高地

　　光刻機決定了半導體加工的最細線寬，通過曝光和光刻膠使晶圓表面產生電路圖形，是芯片制造中最復雜的設備。設備的核心包括光源系統(tǒng)、照明系統(tǒng)/投影光學系統(tǒng)以及用于保持晶圓和掩膜運動的雙工件臺，其中每個系統(tǒng)都由數(shù)萬個甚至十萬多個零件構成。

　　目前市場上的光刻機主要分為g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，銷售結構以中低端的KrF、i-line為主，ArFi、ArF、EUV占比較小，EUV是全球光刻機的重要發(fā)展方向之一。

　　從全球市場來看，阿斯麥(ASML)獨占鰲頭，成為唯一的一線供應商，占據(jù)全球八成以上的市場；旗下產品覆蓋全部級別光刻機，壟斷最高端的EUV市場。ASML 2025年二季度財報顯示，其凈銷售額為77億歐元，環(huán)比持平，同比增長23%；凈利潤為23億歐元，環(huán)比下降約2.8%，同比增長45%。該季度，ASML的光刻機系統(tǒng)銷售收入為56億歐元，其中EUV銷售額為27億歐元，非EUV銷售額為29億歐元；當季售出EUV 11臺、DUV 64臺。

　　ASML之外，日本光刻機雙雄尼康、佳能的市場份額僅在個位數(shù)徘徊。尼康憑多年積累勉守二線，佳能位居第三；兩者出貨亦以成熟制程設備為主。佳能主要集中在i-line領域，并在技術上押注納米壓印光刻；尼康除EUV外均有涉獵。

　　與海外龍頭相比，國產光刻機整體仍有明顯距離。

　　東興證券研報指出，光刻機國產化率僅2.5%，上海微電子為國產光刻機絕對龍頭。目前，上海微電子是中國第一家也是唯一一家光刻機廠商，出貨量占國內市場份額超過80%，產品主要涉及ArF、KrF和i-line領域，已具備90nm及以下的芯片制造能力。

　　華金證券認為，在產品上，上海微電子對標佳能，皆用于成熟制程，浸沒式產品暫未推出。目前，上海微電子已量產光刻機主要有SSX600、SSX500、SSB300、SSB200小Mask、SSB200大Mask等系列。其中，SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺/掩膜臺技術。

　　“零到一”突破預期升溫

　　由于地緣政治因素，中國大陸的芯片產線無法買到ASML生產的EUV，制程上一直落后于臺積電，目前，市場對國產光刻機產業(yè)鏈實現(xiàn)突破的期望在急劇升溫。

　　東興證券研報指出，目前，中國光刻機制造商在面對技術挑戰(zhàn)和供應鏈問題時，產能和產量仍然受限。

　　近些年中國光刻機國產化進程加快，產業(yè)取得一定發(fā)展，但與國際領先水平相比仍存在技術限制，尤其是高端光刻機技術受制于國外供應商，需要上下游同心協(xié)力攻堅。

　　國內光刻機產業(yè)鏈主要包括上游設備及配套材料、中游光刻機系統(tǒng)集成和生產，以及下游光刻機應用三大環(huán)節(jié)。

　　華金證券研報顯示，光刻機產業(yè)鏈中“卡脖子”環(huán)節(jié)，技術積累較深或已直接/間接進入ASML/上海微電子等供應鏈的廠商包括：芯碁微裝(688630.SH，直寫光刻)、富創(chuàng)精密(零部件)、炬光科技(688167.SH，光學器件)、賽微電子(300456.SZ，物鏡)、波長光電(301421.SZ，光源)、奧普光電(002338.SZ，整機)、騰景科技(688195.SH，光學器件)、福晶科技(002222.SZ，光源)、茂萊光學(688502.SH，光源)、電科數(shù)字(600850.SH，計算/控制模塊)、新萊應材(300260.SZ，零部件)、美埃科技(688376.SH)/藍英裝備(300293.SZ)(潔凈設備)、同飛股份(300990.SZ)/海立股份(600619.SH)(溫控)、東方嘉盛(002889.SZ，服務)、上海微電子(整機，未上市)、華卓精科(工件臺，未上市)。

　　21世紀經濟報道記者梳理發(fā)現(xiàn)，目前，我國在光刻機各細分技術領域均有儲備。

　　針對準分子激光光源，科益虹源主要研發(fā)248nm準分子激光器、干式193nm準分子激光器等；福晶科技研發(fā)KBBF晶體；中科院研發(fā)40瓦干式準分子激光光源。針對光學鏡頭，國望光學研發(fā)90nm節(jié)點ArF光刻機曝光光學系統(tǒng)、110nm節(jié)點KrF光刻機曝光光學系統(tǒng)；中科科儀研發(fā)直線式勞埃透鏡鍍膜裝置、納米聚焦鏡鍍膜裝置等。

　　需要注意的是，“光刻機”在不同語境下可能指代用于芯片制造的高端光刻機，也可能是用于PCB(印刷電路板)等領域的直寫光刻設備(LDI)。

　　21世紀經濟報道記者注意到，近期A股多家上市公司在互動易或公告中披露了自身在光刻機或半導體領域的關聯(lián)布局。

　　4月14日，國林科技(300786.SZ)在互動平臺表示，目前公司電子級超純臭氧氣體發(fā)生器和半導體級高濃度臭氧水系統(tǒng)設備部分型號已取得小批量訂單，占主營業(yè)務收入比重較小。此前，公司稱臭氧在電子工業(yè)領域可被廣泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應用。

　　9月18日，南京化纖(600889.SH)公告稱，作為南京工藝的唯一股東，將通過調整后的治理結構對南京工藝業(yè)務、資產實施有效管控。近年來南京工藝積極拓展高端市場，已在多個高端應用領域取得突破。在半導體領域，南京工藝目前已為光刻機、刻蝕機、封裝設備以及晶圓搬運等場合提供配套。

　　9月19日，波長光電在回答投資者提問中稱，公司主營各類光學元件、組件及系統(tǒng)方案，為整機設備、儀器廠家提供配套，部分產品可應用于半導體設備上，但公司暫不掌握終端的具體信息，且目前公司在半導體領域的營收規(guī)模較小。對于拓展相關行業(yè)的客戶群體，基于保密性原則，無法告知具體信息。

　　9月25日，捷眾科技(873690.BJ)披露，公司客戶浙江啟爾機電專注于高端半導體裝備超潔凈流控系統(tǒng)及其關鍵零部件的研發(fā)、生產和銷售，為光刻機提供超潔凈流體處理設備。

　　需要明確的是，單點技術突破和單個公司的研發(fā)仍難以讓國產光刻機打開局面。參看ASML發(fā)展歷史，其與上下游產業(yè)鏈龍頭公司緊密合作，產學研深入發(fā)展帶動了技術革新。

　　中航證券指出，光刻機作為高壁壘、重資本、高風險的行業(yè)，其發(fā)展有賴“舉國體制”之力，需要國家牽頭、科研院所與關鍵公司參與，方可實現(xiàn)供應鏈自主可控。而作為國內光刻機發(fā)展風向標的上海微電子和幾大院所的科技研發(fā)成果，尤其值得長期關注。

　　(作者：彭新 編輯：朱益民)